電鍍專場(chǎng),電鍍商家多、資料全面第17組

QLC-5000全自動(dòng)在線電鍍藥液分析系統(tǒng)

全自動(dòng)在線電鍍藥液分析系統(tǒng)，可同時(shí)進(jìn)行在線濃度分析及自動(dòng)添加。

Cmi900電鍍測(cè)厚儀

電鍍層測(cè)厚儀CMI900可無(wú)損地測(cè)量磁性金屬基體（如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等）上非磁性覆蓋層的厚度（如鉻、銅、琺瑯、橡膠、油漆等）及非磁性金屬基體（如銅、鋅、錫等）上非導(dǎo)電覆蓋層的厚度（如 : 琺瑯、橡膠、油漆、塑料等）。本儀器具有測(cè)量誤差小、性高、穩(wěn)定性好、操作簡(jiǎn)便等特點(diǎn)，是控制和產(chǎn)品質(zhì)量必不可少的檢測(cè)儀器，廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測(cè)領(lǐng)域電鍍層測(cè)厚儀CMI900注意事項(xiàng) A、工作電源要求：CMI900必須工作于穩(wěn)定工作電壓狀態(tài)之下，必須對(duì)CMI900配置UPS后備電源，防止突然斷電引起儀器損壞。UPS后備電源功率大約在1000W~2000W之間即可。B、環(huán)境要求：CMI900是高科技精密測(cè)量?jī)x器，對(duì)環(huán)境的要求特別高，環(huán)境的變化會(huì)直接影響測(cè)量精度、儀器穩(wěn)定性、會(huì)導(dǎo)致儀器出現(xiàn)性能問題及影響儀器的使用壽命。下面是實(shí)驗(yàn)室環(huán)境條件基本要求：□實(shí)驗(yàn)室的標(biāo)準(zhǔn)溫度為20℃,一般檢測(cè)間及試驗(yàn)間的溫度應(yīng)在20±5℃，線值計(jì)量標(biāo)準(zhǔn)間為20±2℃，電工與無(wú)線電專業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)間和線值計(jì)量的計(jì)量檢測(cè)儀器間為20±3℃。□實(shí)驗(yàn)室內(nèi)的相對(duì)濕度一般應(yīng)保持在50－70％。 □實(shí)驗(yàn)室的噪音、防震、防塵、防腐蝕、防磁與屏蔽等方面的環(huán)境條件應(yīng)符合在室內(nèi)開展的檢定項(xiàng)目的檢測(cè) 儀器設(shè)備對(duì)環(huán)境條件的要求，室內(nèi)采光應(yīng)利于檢定工作和計(jì)量檢測(cè)工作的進(jìn)行。 □ 實(shí)驗(yàn)室的環(huán)境條件出現(xiàn)異常，例如溫度和濕度超過(guò)規(guī)定范圍且明顯影響檢定或檢測(cè)結(jié)果時(shí)或當(dāng)環(huán)境條件經(jīng)常出現(xiàn)異常情況，采取適當(dāng)措施給予解決。我司是牛津儀器總代理商，從事與儀器相關(guān)服務(wù)已經(jīng)十多年，擁有技術(shù)過(guò)硬的技術(shù)工程師以及的銷售團(tuán)隊(duì)，可為你解決涵蓋CMI900儀器、CMI700等牛津儀器相關(guān)問題，也可以提供最詳細(xì)的CMI900、CMI700相關(guān)技術(shù)資料。

該公司產(chǎn)品分類：耗材產(chǎn)品鋰電檢測(cè)設(shè)備 PCB檢測(cè)儀器

HQT-IA微電腦多功能電解測(cè)厚儀，電鍍層測(cè)厚儀

特點(diǎn)簡(jiǎn)介：采用MCS-51系列高性能單片微處理器，自動(dòng)采集、計(jì)算并顯示結(jié)果，采用四位LED顯示。如配用微型打印機(jī)，可自動(dòng)打印測(cè)量結(jié)果。與PC電腦連接，電腦可控制測(cè)量過(guò)程，顯示并可儲(chǔ)存測(cè)量曲線及結(jié)果，由通用打印機(jī)打印測(cè)量報(bào)告。臺(tái)灣技術(shù) 專業(yè)制造

產(chǎn)品說(shuō)明

測(cè)量對(duì)象：單金屬鍍層：（Cu Zn、Ni、Ag、Sn、Cr等）合金鍍層（Pb-Sn、Cr-Zn、Zn-Ni、Ni-P等）；復(fù)合鍍層（Cu+Ni+Cr/Fe等）；多線鍍層（需配用電位記錄儀，如與PC電腦連接則不需記錄儀）；

詳細(xì)說(shuō)明：

測(cè)量品種：銅、鎳、鉻、鋅、鎘、銀、金、多層鎳各層厚度及層間電位差�！　y(cè)量范圍：0.03μm～99.99μm 度：±10%　　復(fù)現(xiàn)精度：<5% 　　電位測(cè)量范圍：－100mv～+400mv 電位測(cè)量精度：±5%　　本產(chǎn)品榮獲國(guó)家輕工部科技成果三等獎(jiǎng)。

HQT-IA 微電腦多功能電解測(cè)厚儀特性表

	基本型	多層鎳型
測(cè)量原理	利用與鍍層、基材相對(duì)應(yīng)的電解液、在一定的電流所溶解的硬度和時(shí)間成正比，來(lái)測(cè)定膜厚的一種測(cè)量方（卻運(yùn)用電化學(xué)中的庫(kù)侖法來(lái)測(cè)定膜厚）	測(cè)量厚度的原理和基本型相同。測(cè)量電位差是利用不同鎳層之間的電位差異來(lái)反映各層鎳的厚度及層間電位差。
可測(cè)定材料	可被電解液所電解金屬鍍層，如：鋼、鎳、鉻、鋅、銀、金、錫等。	基本型儀器可測(cè)量的各種鍍種的厚度及多層鎳的層間電位差。
測(cè)量范圍	0．03微米---99.99微米	厚度：0．03微米---99.99微米電位差：-100mV--+400 mV
度	±10%	厚度：±10% 電位差：±5%
復(fù)現(xiàn)精度	＜5%	＜5%
測(cè)量質(zhì)表示	LED4位顯示，其中兩位為小數(shù)。打印輸出四位數(shù)字，其中兩位為小數(shù)	除了擁有LED4位顯示和4位打印輸出以處還有繪圖儀輸出電位差曲線，繪圖儀輸出的圖形是X軸代表電位(mv)，Y軸代表厚度(微米 um)的座標(biāo)軸上顯示的比例曲線。
測(cè)量面積	A橡皮墊圈直徑2.5mm B皮墊圈直徑1.7 mm	A橡皮墊圈直徑2.5mm B皮墊圈直徑1.7 mm
性能特點(diǎn)	操作簡(jiǎn)便，復(fù)現(xiàn)性好，可測(cè)量單層，復(fù)合型電鍍，具有內(nèi)置徵電腦，直觀顯示各層厚度。	操作簡(jiǎn)便，復(fù)現(xiàn)性好，可測(cè)量單層，復(fù)合型電鍍，具有內(nèi)置徵電腦，通過(guò)徵電腦處理，直觀顯示各層厚度及電位差。
設(shè)備配備	主機(jī)、電解池、有機(jī)測(cè)量架、橡皮墊圈、標(biāo)準(zhǔn)樣板、打印紙及支架、試劑瓶等。	主機(jī)、電解池、有機(jī)測(cè)量架、橡皮墊圈、標(biāo)準(zhǔn)樣板、打印紙及支架、試劑瓶、繪圖儀等。

該公司產(chǎn)品分類：投影儀

TITRAPLATE 50MPC CVS循環(huán)伏安法電鍍液測(cè)試儀

工作原理：

CVS 循環(huán)伏安測(cè)試儀在正負(fù)極限電壓之間以穩(wěn)定速率進(jìn)行掃描記錄，其工作電極在電極電壓為負(fù)時(shí)為電鍍沉積過(guò)程，而當(dāng)工作電極的電壓為正時(shí)，金屬沉積層被蝕刻溶解。

（可參考附件下載文件）

涂層測(cè)厚儀MP20電鍍層測(cè)量?jī)x

HELMUT FISCHER公司提供了多種不同的便攜式儀器，可以滿足每個(gè)客戶的需要。

DUALSCOPE^®儀器系列具有允許操作者選擇磁感應(yīng)法或渦流法測(cè)量涂層厚度的能力。可以測(cè)量鋼上的涂鍍層厚度，也可以測(cè)量非鐵金屬上的涂鍍層厚度。

	DUALSCOPE^®MP20	DUALSCOPE^®MP40
非鐵金屬上的油漆、陽(yáng)極氧化層、瓷漆或塑料涂層
鋁上的陽(yáng)極氧化層
鋼或鐵上的儀器、瓷漆或塑料涂層
鋼或鐵上的非鐵金屬鍍層
數(shù)據(jù)儲(chǔ)存
統(tǒng)計(jì)計(jì)算
打印口/RS232 接口
可更換插入式智慧型探頭
測(cè)量范圍（μm）[mils]	取決于探頭	取決于探頭
電源	電池	交流電或電池
重量[g]	230	230
規(guī)格 (高x寬x深mm)[高x寬x深"]	160x80x30[4.25x2.6x1.2]	160x80x30[4.25x2.6x1.2]

涂層測(cè)厚儀MP20電鍍層測(cè)量?jī)x特點(diǎn)

DUALSCOPE^®MP20使用電磁感應(yīng)和渦流兩種測(cè)試方法。提供了對(duì)于既要在鐵磁材料又要在非鐵材料上測(cè)量，并且不需要文件硬拷貝的應(yīng)用需求的經(jīng)濟(jì)解決方案。儀器能自動(dòng)地識(shí)別被測(cè)材料并選擇適合的測(cè)試方法。DUALSCOPE^®MP20 配備有一個(gè)獨(dú)特的和便于讀取的60 x 30 mm （2.4" x 1.2"）液晶顯示器。大量顯示的信息使得操作異常簡(jiǎn)便，包括單個(gè)測(cè)量讀數(shù)，測(cè)量次數(shù)，統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)，Cp和 Cpk，產(chǎn)品規(guī)格限制超出，日期，時(shí)間，以及顯示操作模式和設(shè)置的圖標(biāo)和符號(hào)，2行文本各16個(gè)字母或可自由選擇的符號(hào)以用于顯示數(shù)據(jù)和操作員提示。DUALSCOPE^®MP20允許操作者根據(jù)不同的應(yīng)用情況更換大量可供選擇的Fischer智慧型測(cè)量探頭。這種無(wú)約束的互換探頭的能力允許操作者僅僅通過(guò)簡(jiǎn)單的探頭更換就能適應(yīng)各種的測(cè)量情況。DUALSCOPE^®MP20理想的適合于測(cè)量：

非鐵金屬鍍層（例如：鉻，銅，鋅等）在鐵或鋼上。
油漆、臘克和合成涂層在在鐵或鋼上。
非導(dǎo)電涂層在非鐵金屬基材上，例如油漆、臘克和合成涂層在鋁、銅、黃銅、鋅和不銹鋼上
鋁的陽(yáng)極氧化層
一步測(cè)量鋼材上鍍鋅再鍍油漆的鍍層系統(tǒng)（雙鍍層）中各自的厚度。

DUALSCOPE^®MP40是在MP20基礎(chǔ)上增加了數(shù)據(jù)采集功能。存儲(chǔ)容量多達(dá)1,000數(shù)據(jù)組的10,000個(gè)測(cè)量數(shù)據(jù)，帶動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)分配能力。100個(gè)測(cè)量應(yīng)用的內(nèi)存可用于存儲(chǔ)校準(zhǔn)和相關(guān)的測(cè)量數(shù)據(jù)。

QL-5E QL-10E ECI電鍍添加劑分析系統(tǒng)CVS 鉑金電極參比電極

ECI電鍍添加劑分析系統(tǒng)CVS 鉑金電極參比電極

品牌：美國(guó)ECI 此產(chǎn)品備有兩個(gè)型號(hào)：QL-5E 和QL-10E

功能特點(diǎn)：友好的操作界面，人機(jī)交流簡(jiǎn)單明了。內(nèi)置多種分析程序，可適用于幾乎所有的電鍍?cè)?，能分析其中有機(jī)化合物及無(wú)機(jī)物的含量。由有機(jī)污染物及添加劑的分解產(chǎn)物組成的相應(yīng)曲線將出現(xiàn)在顯示器上，這些物質(zhì)經(jīng)過(guò)碳處理后將被清除�？筛鼡Q式電極能排出鍍液中有機(jī)污染物的影響及提高分析速度。內(nèi)置自動(dòng)注射式光亮劑添加器，能提高操作人員的工作效率及分析精度。應(yīng)用軟件可升級(jí)，包括SPC信息。重要的菜單可設(shè)置密碼保護(hù)。本系統(tǒng)包含一臺(tái)電腦，顯示器及打印機(jī)。

典型的應(yīng)用：能應(yīng)用于機(jī)呼所有的電鍍?cè)》治�。使用QL-5，你能地分析出有機(jī)添加劑，無(wú)機(jī)組分及有機(jī)污染物的含量。QL-5適用于：確定電鍍添加劑的加入量或減少量。掌握的碳處理時(shí)機(jī)。確定電鍍添加劑中各組分的消耗比例。使電鍍產(chǎn)品獲得的品質(zhì)，推動(dòng)電鍍業(yè)的發(fā)展。最重的是QL-5能快捷的分析電鍍?cè)∈侵刑砑觿┑暮�，以達(dá)到的電鍍效果。

供應(yīng)CVS 電極：VAU310參比電極 VAU300鉑金電極CUQP5451銅電極 TAU325參比內(nèi)液等。

十多年來(lái)，我們一直服務(wù)于PCB 廠商、電鍍行業(yè)、科研機(jī)構(gòu)、半導(dǎo)體生產(chǎn)、微電子、光電子、光通訊等電子行業(yè)。我們提供高質(zhì)量的產(chǎn)品和質(zhì)的服務(wù)都得到顧客的獎(jiǎng)勵(lì)，在未來(lái),我們將繼續(xù)履行顧客的期望、要求和需要，愿我們成為真誠(chéng)的合作伙伴、共同描繪雙方的發(fā)展藍(lán)圖！

KGD系列三相硅控電鍍電源KGD系列

三相硅控電鍍電源KGD系列技術(shù)特點(diǎn)與功能介紹輸入為三相四線制380V，五芯柱六相雙反星形整流變壓器、次級(jí)硅控調(diào)壓方式。控制電路密封耐腐蝕，模塊式結(jié)構(gòu)，維護(hù)簡(jiǎn)單方便。定電壓、定電流二種工作模式自由轉(zhuǎn)換，穩(wěn)壓精度正負(fù)1%，穩(wěn)流精度正負(fù)2%。有近控與遠(yuǎn)控雙重控制，遠(yuǎn)程控制可配多種功能控制盒，靈活方便。額定電流：300A至3000A多種規(guī)格；額定電壓：8V，12V，15V，18V，24V等。。 (注：L為加濾波系統(tǒng)）

GGDS/GGDF整流器、整流設(shè)備、高頻脈沖電鍍電源

我司生產(chǎn)的產(chǎn)品以進(jìn)口大功率絕緣柵雙極型晶體管“IGBT”模塊為主功率器件，以超微晶（又稱納米晶）軟磁合金材料為主變壓器鐵芯，主控制系統(tǒng)采用了多環(huán)控制技術(shù)，結(jié)構(gòu)上采取了防鹽霧酸化措施，整機(jī)設(shè)計(jì)合理，性能。使用我司整流器、整流設(shè)備、高頻脈沖電鍍電源可明顯降低電鍍等生產(chǎn)成本,提高用電效率、提高產(chǎn)品質(zhì)量,與可控硅整流器電源相比,電能耗可節(jié)省15%--30%,與硅整流器相比,電能耗可節(jié)省30%--50%，為用戶帶來(lái)可觀的經(jīng)濟(jì)效益，成為用戶用來(lái)替代老式可控硅整流器、硅整流器及油浸電源的選擇。適用于鍍金、鍍銀、鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍銅、鍍鉻、合金電鍍等各種電鍍場(chǎng)所。在陽(yáng)極氧化、真空鍍膜、電解、電泳、電子產(chǎn)品老化等方面也得到用戶一致好評(píng)。特別是在PCB電路制板、凹版印刷制版領(lǐng)域，成為眾多客戶的電源產(chǎn)品。目前公司產(chǎn)品廣泛應(yīng)用在廣東、江蘇、浙江、四川、福建、云南、遼寧、新疆、安徽等地。性能特點(diǎn): 1、高性：在多年電鍍行業(yè)應(yīng)用基礎(chǔ)上，經(jīng)過(guò)不斷創(chuàng)新，整機(jī)設(shè)計(jì)合理，主要零部件采用進(jìn)口器件，核心部件采用國(guó)際專利技術(shù)產(chǎn)品，控制電路采用專有技術(shù)，保護(hù)齊全，隔離及防腐措施合理。 2、高穩(wěn)定性：系統(tǒng)反應(yīng)速度快，對(duì)于網(wǎng)電及負(fù)載變化具有極強(qiáng)的適應(yīng)性，輸出精度可達(dá)1%。 3、節(jié)電效果好：較可控硅整流器可節(jié)電15%-30%，對(duì)于電鍍企業(yè)降低成本發(fā)揮重要作用。 4、體積小、重量輕：體積與重量為可控硅整流器1/5-1/10，方便規(guī)劃、擴(kuò)建、移動(dòng)和安裝。5、輸出電壓，電流可調(diào)，限壓，限流可調(diào)，大大提高客戶使用靈活性，并有遠(yuǎn)控操作功能。6、保護(hù)功能齊全，輸入過(guò)壓保護(hù)，輸出過(guò)熱過(guò)流保護(hù)，缺相保護(hù)，并有報(bào)警功能。技術(shù)指標(biāo)：輸入電壓：三相380V±15% 輸出特性：恒流/恒壓可轉(zhuǎn)換調(diào)節(jié)精度：≤1% 效　　率：≥89% 功率因數(shù)：≥90% 保護(hù)方式：過(guò)壓、欠壓、過(guò)熱、過(guò)流冷卻方式：風(fēng)冷或水冷可選配置：PLC接口環(huán)境溫度：-20℃-55℃ 環(huán)境濕度：≤90% 用電情況：我公司電源效率為89%，下面以3000A12V電源為例計(jì)算用電情況（工作時(shí)間為12小時(shí)）： 3000A 12V (開關(guān)電源) 　用電量： 36÷0.89×12=485（度） 3000A 12V (可控硅電源) 用電量： 36÷0.75×12=576（度）與油浸電源比較：由于冷卻介質(zhì)不同，水冷電源不存在漏油危險(xiǎn)，性優(yōu)于油浸電源；由于全部功率器件采用水冷方式，冷卻效果優(yōu)于油浸電源；重量較油浸電源減少1/3左右；機(jī)箱結(jié)構(gòu)較簡(jiǎn)單，便于維護(hù)；散熱及功率器件不受油污染，便于維修。

產(chǎn)品規(guī)格：輸出電流范圍：1-15000A（常用規(guī)格）輸出電壓：1-100V以下，冷卻方式：風(fēng)冷或水冷。另：可根據(jù)客戶特定的需求來(lái)定制不同規(guī)格型號(hào)的產(chǎn)品（電流1~20000A）,生產(chǎn)周期一周左右。服務(wù)：我公司產(chǎn)品實(shí)行一年保修，終身維護(hù)，可免費(fèi)為客戶培訓(xùn)維修人員。

KH智能電鍍層電解測(cè)厚儀

產(chǎn)品說(shuō)明

測(cè)量對(duì)象：單金屬鍍層：（Cu Zn、Ni、Ag、Sn、Cr等）合金鍍層（Pb-Sn、Cr-Zn、Zn-Ni、Ni-P等）；復(fù)合鍍層（Cu+Ni+Cr/Fe等）；多線鍍層（需配用電位記錄儀，如與PC電腦連接則不需記錄儀）；顯著特點(diǎn): 一機(jī)多用！ZD-B智能電解厚儀＋PC電腦＝ZD-B智能電解測(cè)厚儀＋ZD-B型多線鍍層度-電位測(cè)定儀。

電鍍廢水測(cè)試包,重金屬離子測(cè)試包,污水快速試劑合

詳細(xì)資料請(qǐng)電：13 761400826

日本共立水質(zhì)離子測(cè)試包有多款不同種類，主要檢測(cè)污水排放中重金屬離子及化學(xué)物離子濃度,

如:COD，氨氮，總氮，氯，殘余氯，銅，鎳，鉻，鋅氰磷酸，鐵,錳,氟,....

透過(guò)測(cè)試包表面所顯示的顏色，便能測(cè)出污水中金屬或化學(xué)品的濃度。

可廣泛地使用在污水測(cè)試、廢水排放,飲用水測(cè)試、研究環(huán)境污染,PCB廠，電鍍廠污水處理

一切液體離子含量及濃度分析等多方面，使用方法非常簡(jiǎn)單而且非常安全，

快速準(zhǔn)確任何人都會(huì)使用。

水質(zhì)快速測(cè)試包特長(zhǎng)：

無(wú)需PH校正 …………… PH5~PH9之間都可以使用

不用任何器具…………… 只要將預(yù)埋線拉出

快速得出結(jié)果…………… 大部分項(xiàng)目?jī)H需約2-5分鐘時(shí)間

輕巧方便 …………… 每只試管重量約1公克

不會(huì)損壞 …………… 外層以PE塑膠制試管制成

以下是我司部分水質(zhì)離子測(cè)試包詳細(xì)資料,請(qǐng)參考

No.	化學(xué)名	測(cè)量項(xiàng)目	測(cè)量范圍（mg/L）	測(cè)量時(shí)間	測(cè)量次數(shù)
1	Ag	銀離子試劑合	0、0.5、1、2、5以上	3分鐘	50次/盒
2	Al	鋁離子試劑合	0、0.05、0.1、0.2、0.5、1	1分鐘	40次/盒
3	Au	金離子試劑合	0、2、5、10、20	30秒	40次/盒
4	B	硼離子試劑合	0、0.5、1、2、5、10 ★★	30分鐘	50次/盒
5	Ca	鈣離子試劑合	0、2、5、10、20、50以上	2分鐘	50次/盒
6	Ca	鈣硬度	0、5、12.5、25、50、125以上	2分鐘	50次/盒
7	Cl（300）	氯化物（300）	200、250、300以上	10秒	40次/盒
8	Cl（200）	氯化物（200）	100、150、200以上	10秒	40次/盒
9	Cl（D）	氯化物（低濃度）	0、2、5、10、20、50以上	1分鐘	40次/盒
10	ClO（C）	殘留氯（高濃度）	5、10、20、30、50、100、150、200、300、600、1000以上 ★★	10秒	50次/盒
11	ClO·DP	殘留氯（游離·DPD法）	0.1、0.2、0.4、1、2、5	10秒	50次/盒
12	T·ClO	總殘留氯	0.1、0.2、0.4、1、2、5 ★★	2分鐘	50次/盒
13	ClO2	二氧化氯	0.2、0.4、0.6、1、2、5、10 ★★	10秒	40次/盒
14	CN	游離氰	0.02以下、0.05、0.1、0.2、0.5、1、2 ★	10分鐘	40次/盒
15	COD（H）	COD高濃度	0、30、60、120、200、250以上	5分鐘	50次/盒
16	COD	COD水質(zhì)測(cè)試包	0、5、10、13、20、50、100	5分鐘	50次/盒
17	COD（D）	COD低濃度測(cè)試包	0、2、4、6、8以上	5分鐘	50次/盒
18	Cr^6＋	六價(jià)鉻離子檢測(cè)	0.05、0.1、0.2、0.5、1、2 ★★	2分鐘	50次/盒
19	Cr·T	總鉻離子測(cè)試包	0.5、1、2、5、10、20	5.5分鐘	40次/盒
20	Cu	銅離子水質(zhì)測(cè)試包	0.5、1、2、3、5、10以上 ★★	1分鐘	50次/盒
21	Cu	銅離子檢測(cè)	0.5、1、3、5、10	2分鐘	50次/盒
22	F	氟（游離）	0、0.4、0.8、1.5、3、8以上 ★	10分鐘	50次/盒
23	Fe	鐵離子試劑合	0.2、0.5、1、2、5、10 ★	2分鐘	50次/盒
24	Fe（D）	鐵（低濃度）	0.05、0.1、0.3、0.5、1、2 ★★	2分鐘	50次/盒
25	Fe²⁺	2價(jià)鐵	0.2、0.5、1、2、5、10 ★	30秒	50次/盒
26	Fe²⁺（D）	2價(jià)鐵（低濃度）	0.1、0.2、0.5、0.8、1.2、2.5 ★	30秒	50次/盒
27	FOR	甲醛離子測(cè)試包	0、0.1、0.2、0.3、0.5、1、2 ★	4分鐘	40次/盒
28	H₂O₂	過(guò)氧化氫離子檢測(cè)	0.02、0.1、0.2、0.5、1、5 ★★	1分鐘	50次/盒
29	H₂O₂（C）	過(guò)氧化氫（高濃度）	3、7、13、20、35、70、100、130、200、400、700 ★★	20秒	50次/盒
30	HYD	肼	0.05、0.1、0.2、0.5、1、2	10分鐘	40次/盒
31	Me	金屬總量（5種）	0、0.2、0.5、1、2、5以上	1分鐘	50次/盒
32	Mg	鎂離子測(cè)試包	0、1、2、5、10、20	1分鐘	50次/盒
33	Mg	鎂硬度	0 4.1、8.2、20.5、41、82	1分鐘	50次/盒
34	Mn	錳離子測(cè)試包	0.5、1、2、5、10、20 ★★	30秒	50次/盒
35	NH₄（C）	氨（排水）	0、0.5、1、2、5、10、20以上	15分鐘	50次/盒
36	NH₄（C）	銨態(tài)氮（排水）	0、0.4、0.8、1.6、4、8、16以上	15分鐘	50次/盒
37	NH₄	氨氮離子測(cè)試包	0.2、0.5、1、2、5、10 ★★	5分鐘	50次/盒
38	NH₄	銨態(tài)氮	0.16、0.4、0.8、1.6、4、8 ★★	5分鐘	50次/盒
39	Ni	鎳離子測(cè)試包	0.5、1、2、5、10	2分鐘	50次/盒
40	Ni（D）	鎳離子污水測(cè)試包	0.3、0.5、1、2、5、10 ★★	2分鐘	50次/盒
41	NO₂（C）	亞硝酸（高濃度）	16、33、66、160、330、660以上 ★	5分鐘	50次/盒
42	NO₂（C）	亞硝酸鹽氮（高濃度）	5、10、20、50、100、200以上 ★	5分鐘	50次/盒
43	NO₂	亞硝酸離子測(cè)試	0.02 0.05 0.1 0.2 0.5 1 ★★	2分鐘	50次/盒
44	NO₂	亞硝酸鹽氮	0.005 0.01 0.02 0.05 0.1 0.2 0.5 ★★	2分鐘	50次/盒
45	NO₃（C）	硝酸（高濃度）	90、225、450、900、2250、4500 ★	5分鐘	50次/盒
46	NO₃（C）	硝酸氮（高濃度）	20、50、100、200、500、1000 ★	5分鐘	50次/盒
47	NO₃	硝酸離子測(cè)試包	1、2、5、10、20、45 ★★	3分鐘	50次/盒
48	NO₃	硝酸氮	0.2、0.5、1、2、5、10 ★★	3分鐘	50次/盒
49	O₃	臭氧離子測(cè)試包	0.1、0.2、0.5、1、2、5 ★★	1分鐘	50次/盒
50	PH	PH	PH 5.0-9.5，（0.5間隔10級(jí)）	20秒	50次/盒
51	TBL	TBL	PH 1.6-3.4，（0.2間隔10級(jí)）	20秒	50次/盒
52	BCG	BCG（酸雨用）	PH 3.6-6.2，（0.2間隔14級(jí)）	20秒	50次/盒
53	BTB	BTB	PH 5.8-8.0以上，（0.2間隔12級(jí)）	20秒	50次/盒
54	TBH	TBH	PH 8.2-9.6，（0.2間隔7級(jí)）	20秒	50次/盒
55	Pd	鈀	1、2、5、10、20、30、50	1分鐘	50次/盒
56	PMD	高錳酸鉀消耗量（浴池，水池）	0、3、6、10、12、15	7分鐘	50次/盒
57	PNL	苯酚離子測(cè)試包	0、0.2、0.5、1、2、5、10 ★★	8分鐘	40次/盒
58	PO₄（C）	磷酸（高濃度）	2、5、10、20、50、100 ★★	1分鐘	40次/盒
59	PO₄（C）	磷酸鹽（高濃度）	0.66、1.65、3.3、6.6、16.5、33 ★★	1分鐘	40次/盒
60	PO₄	磷酸離子濃度試劑合	0.2、0.5、1、2、5、10 ★★	1分鐘	40次/盒
61	PO₄	磷酸鹽離子試劑合	0.066、0.165、0.33、0.66、1.65、3.3 ★★	1分鐘	40次/盒
62	PO₄（D）	磷酸（低濃度）	0.05、0.1、0.2、0.5、1、2 ★★	5分鐘	40次/盒
63	PO₄（D）	磷酸鹽（低濃度）	0.02、0.05、0.1、0.2、0.5、1 ★★	5分鐘	40次/盒
64	S	硫化物（硫化氫）	0.1、0.2、0.5、1、2、5 ★	3分鐘	40次/盒
65	SiO₂	二氧化硅	2、5、10、20、50、100、200 ★★	6.5分鐘	40次/盒
66	SiO₂（D）	二氧化硅（低濃度）	0.5、1、2、5、10、20 ★★	6.5分鐘	40次/盒
67	SO₃（C）	亞硫酸（高濃度）	50、100、200、500、1000、2000	10秒	50次/盒
68	TH	總硬度	0、10、20、50、100、200 ★	30秒	50次/盒
69	TN·i	總氮（無(wú)機(jī)）	0、5、10、25、50、100	20分鐘	40次/盒
70	Zn	鋅離子濃度試劑合	0、0.2、0.5、1、2、5以上	1分鐘	50次/盒
前處理劑		名稱	目的	測(cè)量次數(shù)
71	Cr-RA	全鉻前處理劑	3價(jià)鉻轉(zhuǎn)換成6價(jià)鉻時(shí)必用	100
72	NO₃-RA	硝酸前處理劑	在溶液混有NO₂時(shí)必用	50
73	WAS-D-SO4	溶解鐵用的稀硫酸	中和處理、金屬類測(cè)定時(shí)酸處理	20ml
74	WA-NH₄-D	氨分離濃縮試劑	除去溶液中干擾物質(zhì)時(shí)用	50
75	UVR-Me	金屬分解裝置	有機(jī)物分解裝置	50

該公司產(chǎn)品分類：共立水質(zhì)測(cè)試包孔銅測(cè)厚儀 X光測(cè)厚儀其他檢測(cè)設(shè)備其他檢測(cè)設(shè)備其他自動(dòng)添加控制器電鍍生產(chǎn)線自動(dòng)添加設(shè)備測(cè)厚儀

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